HBO Microlithography Lamps for Nikon i-line Systems

Cechy produktu
  • High spectral intensity with peak irradiance at 365nm wavelength, making it ideal for microlithography
  • Designed for long lasting performance
  • Designed for long lasting performance
  • Qualified with Nikon
Obszar zastosowań
  • Microlithography
Instrukcja bezpieczeństwa
Ze względu na wysoką luminancję, promieniowanie UV oraz wysokie ciśnienie wewnętrzne (przy wysokich temperaturach) panujące w lampach HBO, mogą one być eksploatowane wyłącznie w zamkniętych obudowach, specjalnie zaprojektowanych do tego celu. W przypadku zbicia lampy, uwalnia się rtęć. Koniecznie jest przedsięwzięcie specjalnych środków ostrożności. Więcej informacji jest dostępnych na życzenie lub znajduje się w broszurze dołączonej do lampy lub w instrukcji obsługi.

Dowiedz się więcej o rodzinie produktów

HBO lamps > 200W are designed to meet the high demands of the Semiconductor industry. With peak intensity at 365nm these lamps are ideal for microlithography and are designed and qualified for specific equipment manufacturers.

Products

Sort by:
Nazwa produktu
Moc znamionowa
Napięcie nominalne
Odległość a / LCL
Długość
Karty produktów
HBO 1000 W/NEL
750 W 47 V 84,5 mm 187.0 mm
HBO 1002 W/NEL
750 W 47 V 78,5 mm 187.0 mm
HBO 1002 W/NIL
750 W 27.1 V 78,5 mm 190.0 mm
HBO 2001 W/NIL
1750 W 26 V 122.25 mm 251.0 mm
HBO 2000 W/NIL
1750 W 26 V 112.25 mm 219.0 mm
HBO 2001 W/NIEL
1750 W 26 V 112,0 mm 251.0 mm
HBO 2002 W/NIL
1750 W 26 V 107,75 mm 232.0 mm
HBO 2011 W/NIL
2011 W 25 V 107,75 mm 256.0 mm
HBO 2011 W/NILH
2011 W 24 V 107,75 mm 234.0 mm
HBO 2501 W/NIL
2500 W 23 V 157,75 mm 357.0 mm
HBO 2510 W/NIL
2500 W 23 V 157,75 mm 357.0 mm
HBO 3500 W/NIL
3500 W 27 V 180,0 mm 382.0 mm

Materiały do pobrania